●日经Electronics （日经BB社发行）
在2011-11-14号三诚产业的技术被介绍到了！
◆ 向低被炸化加速、最新医疗机器◆
面向于医疗机器的低被炸化的技术开发已经被带到热门阶段了。
由东日本大震灾开端的根据原子能爆炸事故、对于被爆的、是以提高患者的意识为背景的。

然后、医疗机器本来的性能和大幅度的低被爆化得到了两种技术同时陆陆续续的登场。
弊社、CSI（Cesium iodide）的均一结晶使其成长、是荧光体制造的关键科技、ESC（静电）Chuck的表面精度、使其提高到了4～20nm（24mm/100万）实现了高感度化。

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《TMS研修会》TMS纪念研修会的展示情报・作为演讲者被介绍了
◆三诚产业（株）◆
世界的半导体・从液晶业界的大企业得到了很大的信赖和独创性技术力的评价属于TOP Venture。
Plasma发振用Generator以及Matcher是有着高精度制御・高安定性・高耐久性的实绩、现在，在World Wide的生产线上使得被安心的适用着、显示出了生产效率的向上和成本优点增大的实绩！
以出色的高真空・高温耐久性Wafer搬送机器人，搬送机器人作为高寿命制品在业界的Standard Level为止正在成长中。

 

The presentation was carried out in SEMI FORUM JAPAN 2011.
Lecture title：Introduction of the semiconductor newest ultra-fine processing technology
Lecture summary：Introduction of the 2X～3Xnm ETCHING SYSTEM
　　　　　　　　　　Introduction of the high pressure ICP PLASMA SYSTEM

 

ISMI / SEMATECH in Japan 　　About the process improvement before a semiconductor
A presentation was carried out over 30 minutes as a panelist.
During a holding period, we are exhibiting our apparatus.

 

（株）东京商工Research发行的 (最优良企业Magazine / Choice 版本)上、被介绍了作为三星等级的Company来面向于学生。

 

Silicon World　　
Featuring The suppliers of Semiconductor Equipment Materials & Services
CVD/PVD/RTP Dry ETCH/Stripper Automation/Robotics
Nominate Analysis Measurement

 

ISMI / SEMATECH in Japan About the process improvement before a semiconductor
A presentation was carried out over 30 minutes as a panelist.
During a holding period, we are exhibiting our apparatus.

 

SUNSAY was greatly published by Only1 and No.1 special edition in the Chugoku Shimbun.
"Electric appliances and a car are supported."
Presentation about high-speed RF MATCHING BOX and RF measurement.

 

在Electonic Journal 2007年8号上被接载了
座谈会●谈论Venture
说说Venture企业和产学连协
向企业寄予东西制作的发展
民间/大学/行政的连协是很重要的

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周刊Economist
第2特集 半导体创业 被选入最强的70。
●在Plasma用高周波机器的制造上、在国内是少数的几家企业。
在美国的DRAM 及Flash Memory以外、日本国内的半导体工厂等、有着很宽广的纳入实绩。在Etching工程的高周波机器上取得了独占的地位。